眾所周知，在全球芯片代工市場(chǎng)中，絕大部分的芯片代工市場(chǎng)份額都被臺(tái)積電、三星所壟斷，因?yàn)榕_(tái)積電、三星擁有最為先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，在2020年，臺(tái)積電、三星更是會(huì)進(jìn)入到5nm芯片工藝時(shí)代，反觀中國(guó)大陸地區(qū)最大的芯片代工巨頭—中芯國(guó)際，直到2019年年底才正式開(kāi)始量產(chǎn)14nm芯片，據(jù)透露，目前中芯國(guó)際已經(jīng)接下了華為14nm超級(jí)芯片大單，同時(shí)在近日也正式向華為交出了第一批14nm芯片，更重要的是，中芯國(guó)際14nm芯片工藝正式量產(chǎn)，意味著中芯國(guó)際所擁有的芯片制造工藝就能夠直接滿足國(guó)內(nèi)95%的芯片制造需求，極大的緩解國(guó)產(chǎn)芯片在制造領(lǐng)域的困境。

除了在14nm芯片工藝上，不斷傳來(lái)好消息以外，目前中芯國(guó)際也正在研發(fā)全新一代N+1、N+2芯片工藝，根據(jù)中芯國(guó)際CEO梁孟松描述：“N+1芯片工藝相較于目前的14nm，不僅僅在性能方面提升了20%，同時(shí)在功耗方面也直接降低了57%，邏輯面積直接縮小了63%，晶體管密度更是提升了近1倍。而N2+芯片工藝則會(huì)面向更高性能的芯片，”其中梁孟松也更是重點(diǎn)提到，目前中芯國(guó)際N+1、N+2芯片工藝都不會(huì)采用EUV工藝，再等到相關(guān)EUV光刻機(jī)設(shè)備就緒后，中芯國(guó)際方面會(huì)直接將N+2芯片工藝直接轉(zhuǎn)向EUV工藝，進(jìn)一步提升中芯國(guó)際的芯片工藝制造水平。

就從目前N+1芯片工藝、N+2芯片工藝的整體規(guī)格來(lái)看，無(wú)疑中芯國(guó)際N+1芯片工藝、N+2芯片工藝水準(zhǔn)都直接與目前臺(tái)積電的7nm芯片工藝水準(zhǔn)相差無(wú)幾;對(duì)此，很多網(wǎng)友或許就要表示疑問(wèn)了，目前中芯國(guó)際并沒(méi)有相關(guān)的高端EUV光刻機(jī)設(shè)備，也能夠攻克7nm芯片工藝的難題嗎?

其實(shí)我們回顧臺(tái)積電在7nm芯片工藝的發(fā)展史，就能夠看到，臺(tái)積電其實(shí)在7nm芯片工藝上共有三次技術(shù)迭代，他們分別為：“低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工藝的N7+”，前兩代的7nm芯片工藝都沒(méi)有使用高端EUV光刻機(jī)設(shè)備，唯獨(dú)N7+使用了EUV工藝，所以對(duì)于很多小伙伴們所關(guān)心的問(wèn)題，沒(méi)有EUV光刻機(jī)設(shè)備，中芯國(guó)際同樣也能夠進(jìn)入到7nm芯片工藝時(shí)代，但對(duì)于7nm EUV芯片工藝則依舊需要依賴高端EUV光刻機(jī)設(shè)備。對(duì)此，很多網(wǎng)友也更是紛紛表示：“中國(guó)第二個(gè)“臺(tái)積電”要誕生了。”

據(jù)悉，中芯國(guó)際為了能夠加快芯片工藝研發(fā)以及產(chǎn)能提升，今年中芯國(guó)際將會(huì)加大研發(fā)支出，用于研發(fā)、建設(shè)晶圓廠，投資金額更是高達(dá)31億美元(約人民幣216億元)，在上海(20億美元)、北京(5億美元)建設(shè)12英寸圓晶廠。

寫在最后：對(duì)于中芯國(guó)際的強(qiáng)勢(shì)崛起，成為了國(guó)產(chǎn)自主芯片產(chǎn)業(yè)背后最有力的“籌碼”，各位看官，你們?cè)趺纯茨?歡迎在評(píng)論區(qū)中留言討論，期待你們的精彩評(píng)論!

關(guān)鍵詞： 臺(tái)積電 中芯國(guó)際 半導(dǎo)體