(資料圖片僅供參考)
全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模近年來(lái)穩(wěn)步增長(zhǎng),受需求提升疊加晶圓產(chǎn)能轉(zhuǎn)移帶動(dòng),我國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模加速提升。機(jī)構(gòu)指出,掩膜版是光刻過程中的核心耗材,從細(xì)分領(lǐng)域看,半導(dǎo)體掩膜版占比約12%,與電子特氣占比相當(dāng)。
掩膜版是光刻過程中的重要部件,其性能的好壞對(duì)光刻有著重要影響。在光刻過程中,掩膜版是設(shè)計(jì)圖形的載體。通過光刻,將掩膜版上的設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移,功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。從半導(dǎo)體掩膜版龍頭廠photronics銷售表現(xiàn)來(lái)看,與下游半導(dǎo)體銷售相比,在半導(dǎo)體景氣下行周期內(nèi),掩膜版的營(yíng)收增速下滑幅度相對(duì)較小,體現(xiàn)出一定的抗周期性;同時(shí)photronics掩膜版業(yè)務(wù)在部分周期內(nèi)表現(xiàn)出一定的領(lǐng)先性,較下游半導(dǎo)體銷售率先達(dá)到景氣拐點(diǎn)。平安證券指出,隨著工藝技術(shù)創(chuàng)新步伐加快,芯片加速邁向先進(jìn)制程,半導(dǎo)體掩膜版制程同步提升,毛利率加速改善。SEMI預(yù)計(jì)2025年中國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)有望達(dá)到200億美元,保守估計(jì)本土掩膜版的份額有望在2025年突破26億美元。
據(jù)財(cái)聯(lián)社主題庫(kù)顯示,相關(guān)上市公司中:
路維光電是掩膜版專業(yè)制造商,公司已實(shí)現(xiàn)250nm制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版的量產(chǎn),掌握180nm/150nm制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版制造核心技術(shù)能力。
芯碁微裝表示,在制版光刻機(jī)領(lǐng)域,目前主流制程在100-400nm工藝區(qū)間,公司將盡快推出量產(chǎn)90nm節(jié)點(diǎn)制版需求的光刻設(shè)備以滿足半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)的更新迭代。
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